臭氣處理設(shè)備 異味治理設(shè)備 廢氣處理設(shè)備 活性炭吸附凈化除臭裝置 活性炭吸附除臭設(shè)備 光催化除臭設(shè)備 光氧催化廢氣處理裝置 UV光解凈化器設(shè)備
廢氣處理設(shè)備是什么?
廢氣處理設(shè)備,主要是指運(yùn)用不同工藝技術(shù),經(jīng)過收回或去除、削減排放尾氣的有害成分,到達(dá)保護(hù)環(huán)境、凈化空氣的一種環(huán)保設(shè)備,讓我們的環(huán)境不遭到污染。
廢氣處理設(shè)備的品種:
一、吸收設(shè)備
吸收法選用低揮發(fā)或不揮發(fā)性溶劑對VOCs進(jìn)行吸收,再利用VOCs和吸收劑物理性質(zhì)的差異進(jìn)行別離。
二、吸附設(shè)備
在用多孔性固體物質(zhì)處理流體混合物時(shí),流體中的某一組分或某些組分可被吸外表并濃集其上,此現(xiàn)象稱為吸附。吸附處理廢氣時(shí),吸附的對象是氣態(tài)污染物,氣固吸附。被吸附的氣體組分稱為吸附質(zhì),多孔固體物質(zhì)稱為吸附劑
三、有機(jī)廢氣的燃燒及催化凈化設(shè)備
燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有用,其原理是用過量的空氣使這些雜質(zhì)燃燒,***多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣,能夠排放到***氣中。但當(dāng)處理含氯和含硫的有機(jī)化合物時(shí),燃燒生成產(chǎn)品中HCl或SO2,需要對燃燒后氣體進(jìn)一步處理。
四、工業(yè)有機(jī)廢氣的低溫等離子體的管理設(shè)備
五、光催化和生物凈化設(shè)備
廢氣處理設(shè)備的基本要求:
1、設(shè)備內(nèi)氣體與液體應(yīng)有滿足的觸摸面積和觸摸時(shí)刻。
2、氣液兩相應(yīng)具有激烈擾動(dòng),削減傳質(zhì)阻力,進(jìn)步吸收功率。
3、操作規(guī)模寬,運(yùn)轉(zhuǎn)安穩(wěn)。
4、設(shè)備阻力小,能耗低。
5、具有滿足的機(jī)械強(qiáng)度和耐腐蝕才能。
6、結(jié)構(gòu)簡略、便于制作和檢修。